challenger 174
Hochpräzises Druck- und Beschichtungssystem
Die challenger 174 ist ein hochpräzises Druck-, Beschichtungs- und Laminiersystem. Das einzigartige System ist prädestiniert für die Entwicklung von gedruckter Elektronik. Die challenger 174 bietet enorme Möglichkeiten durch ihre Inline Druck-, Laminier- und Trocknerstationen.
Die einzigartige Positioniergenauigkeit ermöglicht das Mehrschichtdrucken auf flexiblen und starren Substraten in höchster Genauigkeit und die Entwicklung komplexer Strukturen. Die Substrate werden über ein Video-Optik-System ausgerichtet. Der Substratträgerschlitten fährt in einer vordefinierten Reihenfolge durch die Druck-, Beschichtungs- und Trocknungsstationen.
Für den Einsatz in F&E und Pilotanwendungen in einem breiten Branchen-Spektrum.
- Inline Druck-, Laminier- und Trocknerstationen
- Drucken, beschichten und laminieren von flexiblen (Folien) und starren (Glas/Silikon) Substraten
- Optisches Ausrichtsystem mit integrierten Kameras
- Messsoftware für Echtzeit-Inspektion
- Höchste Positioniergenauigkeit +/- 10 μm
- Kleines Tintenvolumen pro Druck <1 ml
Druck-, Beschichtungs- und Laminierwerke
- Tiefdruck
- Indirekter Tiefdruck (Gravure Offset)
- Flexodruck
- Siebdruck
- Slot die
- Inkjet
- Substrat Handling- und Positioniersystem
- Laminator, etc.
Trocknerstationen
- UV
- IR (NIR)
- Photonic Curing
Technische Daten
- Hochpräzise Linearführungen für das präzise Verfahren des Substratschlittens (Vakuum Chuck)
- Einfache Bedienung über Farb-Touchscreen
- Benutzerfreundliche BECKHOFF Steuerung
- Rakeldruck, Rakelwinkel und Presseurdruck präzise einstellbar und reproduzierbar
- Druckformat: 150 x 150 mm oder grössere Substrate
- Druckgeschwindigkeit: Bis 30 m/min. stufenlos regelbar
- Länge: 1200 mm
- Breite: 880 mm
- Höhe: 1615 mm
- Gewicht: 300 kg
Impressionen challenger 174
